Технологический процесс изготовления печатных плат

Современный процесс изготовления печатных плат (включая подложки ИС) в основном включает субтрактивный метод (Subtractive), полный аддитивный процесс (FAP) и полуаддитивный процесс (модифицированный полуаддитивный процесс, mSAP).

Субтрактивный метод

Субтрактивный процесс изготовления PCB — это метод выборочного удаления части медной фольги на поверхности медного ламината для получения проводящего рисунка. Он остается основным в производстве печатных плат благодаря зрелости, стабильности и надежности технологии.

Технологический процесс изготовления печатных плат

Платы, изготовленные этим методом, делятся на две категории:

Платы без металлизации отверстий

Изготавливаются методом трафаретной печати или фотохимическим способом. В основном односторонние, реже двусторонние. Применяются в телевизорах, радиоприемниках.

Платы с металлизацией отверстий

Используют химическое и гальваническое осаждение меди для создания электрических соединений между слоями через отверстия. Применяются в компьютерах, коммутаторах, смартфонах.

В зависимости от способа металлизации выделяют:

  1. Гальванизацию рисунка

— Формирование токопроводящего рисунка + осаждение защитного слоя (Sn-Pb, Au и др.)

— Удаление ненужного резиста + травление

— Включает SMOBC-технологию (паяльная маска на голой меди).

  1. Гальванизацию всей платы

— Осакждение меди по всей поверхности с последующим формированием рисунка.

— Включает методы via plugging (заполнение отверстий) и via tenting (закрытие отверстий).

Преимущества: простота, равномерность покрытия.

Недостатки: высокое энергопотребление, сложность создания сверхтонких дорожек (<2 mil).

 

Области применения

— Обычные PCB

— Гибкие платы (FPC)

— HDI-платы

Ограничения для сверхтонких линий (менее 2 mil) из-за бокового подтравливания.

Аддитивные методы

Технологический процесс изготовления печатных плат

Полный аддитивный процесс (FAP)

Формирование проводящего рисунка путем химического осаждения меди на диэлектрик с фотоактивным слоем. Позволяет создавать линии до 10 мкм, но требует специальных материалов и обладает высокой себестоимостью. Используется для подложек WB/FC-чипов.

Полуаддитивный процесс (mSAP)

Этапы:

  1. Нанесение тонкой меди на подложку
  2. Формирование фоторезистивной маски
  3. Утолщение дорожек гальванической медью
  4. Снятие резиста + быстрое травление «фоновой» меди

Преимущества:

— Минимальное боковое подтравливание

— Возможность создания линий 14/14 мкм

— Высокая точность повторения рисунка

Применение: CSP-корпуса, подложки для микрочипов.

 

Преимущества аддитивных методов:

  1. Сокращение расхода меди и травильных растворов
  2. Упрощение техпроцесса на 30%
  3. Плоская поверхность для SMT-монтажа
  4. Равномерность покрытия в отверстиях

Сравнение методов

Параметр Субтрактивный Полуаддитивный
Мин. ширина линии 2 mil 14 мкм
Металлизация отверстий Возможна Не требуется
Себестоимость Низкая Высокая
Применение Стандартные PCB Сверхточные схемы

 

Тренды индустрии

Технологический процесс изготовления печатных плат

  1. Переход от HDI к SLP-подложкам (30/30 мкм)
  2. Рост спроса на гальваническое оборудование
  3. Конкуренция между:

— Производителями HDI (опыт, но требуется модернизация)

— Производителями подложек ИС (готовые технологии, но высокая себестоимость)

 

Ключевые проблемы:

— Для HDI: освоение mSAP-технологии

— Для производителей подложек: оптимизация затрат

Оставьте комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *

Прокрутить вверх